2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[21a-B203-1~11] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2022年9月21日(水) 09:00 〜 12:00 B203 (B203)

嶋 紘平(東北大)

09:00 〜 09:15

[21a-B203-1] 赤外線レーザー蒸着装置を用いた酸化亜鉛薄膜の合成

増田 達也1、太宰 卓朗1,2、佐藤 利弘3、関根 徳彦4、寳迫 巌4、高橋 竜太2、鯉沼 秀臣1 (1.SCT、2.日大工、3.バキュームプロダクツ、4.情報通信研究機構)

キーワード:酸化亜鉛、赤外線レーザー、薄膜