The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022

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Oral presentation

21 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices" » 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[21a-B203-1~11] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

Wed. Sep 21, 2022 9:00 AM - 12:00 PM B203 (B203)

Kohei SHIMA(Tohoku Univ.)

11:30 AM - 11:45 AM

[21a-B203-10] Random lasing from laser-induced roughness structures on ZnO single crystal

Yuki Kamakura1, Toshihiro Nakamura1, Ryota Suzuki1 (1.Hosei Univ.)

Keywords:random lasing, zinc oxide

ランダムレーザーは散乱体と光利得媒質で構成されるレーザー源であり、簡易に良質な結晶が成長可能であるZnOがよく用いられる。近年、GaN基板上へのレーザー照射によりラフネス構造を形成し,ランダムレーザーとして動作させる提案がなされ、当研究室でもZnOで同様の報告をしている。今回、異なる結晶方位を持つZnO単結晶基板上にレーザー誘起構造を形成し、そのランダムレーザー特性の評価を行った。