[21a-C202-1~12] 17.3 層状物質

[21a-C202-4] ミストCVD法によるMoS₂の作製と膜特性2

〇(M1)小松 正彦¹、安岡 龍哉¹、刘 丽^1,2、川原村 敏幸^1,2 (1.高知工大シス工、2.高知工大総研)

キーワード：ミストCVD、MoS2