The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.7 Compound and power devices, process technology and characterization

[21a-M206-1~13] 13.7 Compound and power devices, process technology and characterization

Wed. Sep 21, 2022 9:00 AM - 12:30 PM M206 (Multimedia Research Hall)

Koji Kita(Univ. of Tokyo)

9:00 AM - 9:15 AM

[21a-M206-1] Thermal Oxidation of SiC Surface in CO2 Atmosphere

〇(B)Ryuta Deguchi1, Takuji Hosoi1 (1.Kwansei Gakuin Univ.)

Keywords:SiC, Oxidation, CO2

これまでにCO2熱処理による電界効果移動度の向上や信頼性向上が報告されているが、その酸化反応機構は十分に明らかとなっていない。1500°C以上のCO2熱酸化ではその高い活性化エネルギーからSiO2とSiCの反応が支配的であると考えられている。本研究では1250~1350°CでのCO2熱酸化について検討した。結果的にこの温度域でも緩やかに酸化は進行するが、1500°C以上の場合とは異なる酸化反応が支配的であるとわかった。