[21p-A205-1~21] 3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス（旧3.15）

[21p-A205-2] Siフォトニクスフル集積FMCW LiDARチップの環境光耐性

〇鎌田 幹也¹、玉貫 岳正¹、鉄矢 諒¹、伊藤 寛之¹、阿部 紘士¹、倉橋 諒¹、馬場 俊彦¹ (1.横国大院工)

キーワード：FMCW LiDAR、Siフォトニクス