[21p-A301-1~13] 1.3 Novel technologies and interdisciplinary engineering

[21p-A301-9] Investigation of Precise Machining Process for Cladding Layer of Optical Polymer Waveguide

〇Syouhei Lin¹, Yuuki Tsuji¹, Taegyu Woo¹, Joji Maeda¹, Taro Itatani², Takeru Amano² (1.Tokyo Univ. of Science, 2.AIST)

Keywords:Optical Polymer Waveguide, Semiconductor process, Silicon Photonics

シリコンフォトニクスを中心とした光技術の利用が拡大している。光ファイバーとの接合に用いられるポリマー光導波路において、下部クラッドに精密研削技術を適用することにより、クラッド層の面内ばらつきは±0.2 mm以下に抑えられていることが明らかになり、光導波路の平坦化が実現された。このことからコアの位置と均一性が向上すると考えられ、ポリマー光導波路の集積化における貢献が期待される。