[21p-A301-1~13] 1.3 新技術・複合新領域

[21p-A301-9] 研削技術を用いたポリマー光導波路の精密クラッド形成プロセスの検討

〇林 翔平¹、辻 祐樹¹、禹 泰圭¹、前田 讓治¹、板谷 太郎²、天野 健² (1.東理大　理工、2.産総研)

キーワード：ポリマー光導波路、半導体プロセス、シリコンフォトニクス

シリコンフォトニクスを中心とした光技術の利用が拡大している。光ファイバーとの接合に用いられるポリマー光導波路において、下部クラッドに精密研削技術を適用することにより、クラッド層の面内ばらつきは±0.2 mm以下に抑えられていることが明らかになり、光導波路の平坦化が実現された。このことからコアの位置と均一性が向上すると考えられ、ポリマー光導波路の集積化における貢献が期待される。