[21p-A304-1~13] 11.2 Thin and thick superconducting films, coated conductors and film crystal growth

[21p-A304-13] Development of YBCO patterned multi-filamentary thin film using photolithography method

〇MATSUMOTO AKIYOSHI¹, Minoru Tachiki¹, Shuuichi Ooi¹, Ryo Teranishi² (1.NIMS, 2.Kyushu Univ.)

Keywords:Photolithography, multifilamentary

高温超伝導（HTS）被覆導体（CC）は、低温および高磁場条件下の超伝導磁石や、電力機器への適用が期待されており、多くの企業から製品化された線材が供給されている。一方で、HTS-CCの臨界電流密度は非常に高いため、遮蔽電流やACロスを減らす必要がある。一般に、ACロスを低減する方法として、フィラメントを分割して数を増やすことが効果的であることが知られている。これまで、機械加工やレーザーによるスクライビング手法などによって切断する手法が提唱されており、信頼のある技術になってきている。しかしながら、これらの手法では得られる芯線数に限界がある。本研究では、フォトリソグラフィー技術を使用して基板上にバンク構造を有したパターンを作製し、マルチフィラメント薄膜にする新手法を開発したので報告を行う。