[21p-A304-1~13] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

[21p-A304-13] フォトリソグラフィー法を用いたYBCOマルチフィラメント薄膜の開発

〇松本 明善¹、立木 実¹、大井 修一¹、寺西 亮² (1.物材機構、2.九大)

キーワード：フォトリソグラフィー、多芯化

高温超伝導（HTS）被覆導体（CC）は、低温および高磁場条件下の超伝導磁石や、電力機器への適用が期待されており、多くの企業から製品化された線材が供給されている。一方で、HTS-CCの臨界電流密度は非常に高いため、遮蔽電流やACロスを減らす必要がある。一般に、ACロスを低減する方法として、フィラメントを分割して数を増やすことが効果的であることが知られている。これまで、機械加工やレーザーによるスクライビング手法などによって切断する手法が提唱されており、信頼のある技術になってきている。しかしながら、これらの手法では得られる芯線数に限界がある。本研究では、フォトリソグラフィー技術を使用して基板上にバンク構造を有したパターンを作製し、マルチフィラメント薄膜にする新手法を開発したので報告を行う。