2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[21p-A304-1~13] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2022年9月21日(水) 13:00 〜 16:45 A304 (A304)

尾崎 壽紀(関西学院大)、舩木 修平(島根大)、飯田 和昌(日大)

14:30 〜 14:45

[21p-A304-6] 透過電子顕微鏡法によるBa2YbNbO6ドープYBa2Cu3O7-x薄膜の構造解析

黒木 優成1、石丸 学1、堀出 朋哉1、松本 要1、喜多 隆介2 (1.九工大工、2.静岡大工)

キーワード:超伝導体、ダブルペロブスカイト型構造

REBa2Cu3O7-xJc向上には、自己組織化したナノロッド添加が有効である。ナノロッドにはペロブスカイト型構造を有する結晶が用いられているが、組成や格子定数の自由度が高いなどの利点から、最近ではダブルペロブスカイト型構造をもつナノロッドが注目を集めている。本研究では、この構造をもつBa2YbNbO6をドープしたYBa2Cu3O7-x薄膜を作製し、透過電子顕微鏡法により構造解析を行なった。