[21p-P16-1~15] 6.4 Thin films and New materials

[21p-P16-9] Electrical property control of PLD-deposited amorphous vanadium oxide thin films by UV irradiation and uniaxial compression annealing

〇(M1)Itsuki Osawa¹, Hiroki Shoji¹, Kenta Kaneko¹, Satoru Kaneko^2,1, Akifumi Matsuda¹, Mamoru Yoshimoto¹ (1.Tokyo Tech, 2.KISTEC)

Keywords:amorphous, ultraviolet light, electrical property control

本研究では、パルスレーザー堆積法によって室温合成した酸化バナジウム系非晶質薄膜の電気特性制御を目的として、PLD成膜条件、真空紫外光やエキシマレーザー光照射、およびナノインプリント装置を活用した一軸圧縮熱処理などを検討した。エキシマレーザー光100パルス照射によって1桁以上抵抗率は減少し、導電性の向上を確認できた。これはレーザー照射によるVイオンの価数変化や酸素欠陥生成など関連していると考えられる。