[21p-P16-1~15] 6.4 薄膜新材料

[21p-P16-9] PLD合成したアモルファス酸化バナジウム系薄膜の紫外光照射及び一軸圧縮熱処理による電気特性制御

〇(M1)大澤 樹¹、庄司 拓貴¹、金子 健太¹、金子 智^2,1、松田 晃史¹、吉本 護¹ (1.東工大物質理工、2.神奈川産技総研)

キーワード：非晶質、紫外光、電気特性制御

本研究では、パルスレーザー堆積法によって室温合成した酸化バナジウム系非晶質薄膜の電気特性制御を目的として、PLD成膜条件、真空紫外光やエキシマレーザー光照射、およびナノインプリント装置を活用した一軸圧縮熱処理などを検討した。エキシマレーザー光100パルス照射によって1桁以上抵抗率は減少し、導電性の向上を確認できた。これはレーザー照射によるVイオンの価数変化や酸素欠陥生成など関連していると考えられる。