[22a-P04-1~14] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[22a-P04-8] ビニル基含有原料で作製したSiO:CH微粒子堆積膜の成膜時間依存性

〇中泉 有稀¹、井上 泰志¹、高井 治² (1.千葉工大院工、2.関東学院大材料表面研)

キーワード：CCP-CVD、SiO:CH、超撥水性

我々はCVD法によって作製されるSiO:CH微粒子を堆積させ，表面微細凹凸構造を有するSiO:CH微粒子堆積膜を形成するプロセスを研究してきた．原料にTMVSを使用した研究例は少なく，本研究では成膜時間に対する表面微細構造の変化を明らかにすることを目的とした．静的接触角から微粒子堆積に伴う表面の微細凹凸構造が化学結合状態に由来する撥水性を大きく向上させていたが，成膜時間の影響は小さく，膜厚は撥水性の支配的要因ではないといえる．