[22a-P04-1~14] 8 Plasma Electronics(Poster)

[22a-P04-7] Feasibility study of monitoring of particle generation in plasma etching process
by load impedance measurement

〇Yuji Kasashima¹, Tatsuo Tabaru¹, Takashi Ikeda² (1.AIST, 2.Nippon Tungsten)

Keywords:plasma etching, plasma impedance, particle

プラズマエッチングプロセスで発生するパーティクルは、半導体製造工程の前工程において歩留りや装置稼働率を低下させる一大要因である。本研究では、これまで開発を進めてきた負荷インピーダンス計測手法を応用したパーティクルの発生状況のモニタリングについて検証した結果、負荷インピーダンス計測によってパーティクル発生傾向を間接的にモニタリング可能であることが見い出された。