講演情報

Tweet

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[22p-A202-1~22] 6.2 カーボン系薄膜

2022年9月22日(木) 13:00 〜 19:00 A202 (A202)

青野祐美(鹿児島大)、山田英明(産総研)、大曲新矢(産総研)

17:45 〜 18:00

[22p-A202-18] （111）ダイヤモンド基板上CVD合成における合成速度と完全配向NVセンタの特性のオフ角依存性

〇(D)辻赳行¹、岩﨑孝之¹、波多野睦子¹ (1.東工大工)

キーワード：NVセンタ、CVD