[22p-A202-1~22] 6.2 カーボン系薄膜

[22p-A202-5] 熱CVDによる層状窒化炭素薄膜の合成圧力依存性

〇高間 滋己¹、羽渕 仁恵¹、青木 颯¹、飯田 民夫¹ (1.岐阜高専)

キーワード：窒化炭素

層状窒化炭素（CN）は、メラミンやグアニジン炭酸塩などを熱縮合させることで合成可能であり、気相成長法を用いることで層の配向性の高いCN薄膜を生成することができる。本研究では、メラミンを用いた熱CVDでの合成時の圧力をパラメータとしてCN薄膜を合成した。圧力が10から180 kPa までの範囲では、X線回折の(001)の回折ピークの半値幅は圧力が大きいほど小さく、結晶性が高くなった。