[22p-A202-1~22] 6.2 Carbon-based thin films

△ [22p-A202-9] Electrochemical Properties of Conductive Ultrananocrystalline Diamond Thin Films Deposited by Coaxial Arc Plasma Deposition

〇Hiroki Hashiguchi¹, Satoki Nagano¹, Hiroshi Naragino¹, Tsuyoshi Yoshitake¹ (1.Interdiscip. Grad. Sch. Eng. Sci., Kyushu Univ.)

Keywords:Ultrananocrystalline diamond, electrochemical, thin films

本研究は物理気相成長法の一種である同軸型アークプラズマ成膜(CAPD)法により，導電性Si基板上に導電性超ナノ微結晶ダイヤモンド(UNCD)薄膜を成膜し，電気化学特性を調査した．その結果，導電性UNCD電極は優れた電極材料であるホウ素ドープ多結晶ダイヤモンド(BDD)電極に匹敵する性能を示した．