[22p-P13-1~28] 12.1 作製・構造制御

[22p-P13-26] p-ヘキサデシルスチレンのイオンアシスト蒸着重合

〇佐々木 青葉¹、大山 敦史¹、北澤 悠人²、臼井 聡²、臼井 博明¹ (1.農工大工、2.新潟大理)

キーワード：イオンアシスト蒸着

低表面エネルギー・低活性な表面は様々な応用が期待される。フッ素系ポリマーはその代表例として知られているが、ハロゲン元素を持つために微視的には分子内部に大きな分極を持つとともに、環境保全上も課題がある。そこで本研究では低極性かつ低表面エネルギー材料として、長鎖アルキル基を持つスチレン系材料に注目し、イオンアシスト蒸着によって高分子薄膜を形成することを試みた。