2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[23a-A202-1~10] 6.2 カーボン系薄膜

2022年9月23日(金) 09:00 〜 11:30 A202 (A202)

重川 直輝(大阪市立大)、稲葉 優文(九大)

09:45 〜 10:00

[23a-A202-4] マルチフィンガー構造の導入による2DHGダイヤモンドMOSFETsゲート幅拡大と高周波特性の改善

〇(B)長 幸宏1、荒井 雅一1、高橋 輝1、浅井 風雅1、鈴木 優紀子1、平岩 篤1、川原田 洋1,2 (1.早大理工、2.早大材研)

キーワード:ダイヤモンド、高周波、MOSFET

FETの出力電力向上には実電流の増大が不可欠である。本研究ではマルチフィンガー構造のゲートを導入した2DHGダイヤモンドMOSFETsを作製し、フィンガー数を増加させてゲート幅を拡大した。本構造では自己発熱による影響が小さく、ドレイン電流密度を維持したまま、ゲート幅拡大に比例した実電流の増大が実現された。また本構造ではゲート幅を拡大してもゲート抵抗が増大しないため、ゲート幅1mmでの良好な高周波特性も実現された。