2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

[23a-A205-1~13] 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

2022年9月23日(金) 09:00 〜 12:30 A205 (A205)

安藤 裕一郎(京大)、重松 英(京大)

11:15 〜 11:30

[23a-A205-9] Fe/Co0.75Fe2.25O4界面における磁気層間結合の電圧制御

日高 温志1、柳原 英人1 (1.筑波大)

キーワード:磁気層間結合、絶縁性強磁性体、導電性酸化物

磁気層間結合(IEC)の電圧制御(VCIEC)は、これまで明確な実証に至っていない。金属人工格子におけるIECが広く知られているが、絶縁性強磁性体を用いた系では容易に大きな電圧を印加することができる。このため我々はVCIECを検証する系として負のIECが確認されているFe/(CFO)/MgO(001)[2]に電圧印加することを考えている。CFOの下部電極層には逆位相境界の影響を抑えるため、同等の格子定数を有する導電性スピネル酸化物CoV2O4を選択した。講演ではIECの結合強度評価などの実験結果について議論する予定である。