[23a-P04-1~2] 13.3 絶縁膜技術

[23a-P04-2] FT-IR微分スペクトルによる低温酸化Si膜中の残留OH基量の評価

〇普 迪¹、堀田 將¹ (1.北陸先端大)

キーワード：低温、酸化膜、評価