[23a-P05-1~1] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[23a-P05-1] A Consideration of Vapor-Permeable Membrane Structure for NEMS Vacuum Packaging in Narrow Space

〇Atsushi Miura¹, Keiichi Shimaoka¹, Keita Funayama¹, Hiroya Tanaka¹, Yukihiro Tadokoro¹ (1.TOYOTA CRDL)

Keywords:Permeable Membrane, Vacuum Packaging

アルコールとHFの混合ガスは多孔質Poly-Si膜を透過するため、SiO2犠牲層上に多孔質Poly-Si を成膜しSiO2をエッチングすることで空隙を作 製できる。透過膜の厚さや大きさは膜の強度に影響するため、膜の構造諸元の明確化は空隙を形成する際の重要な検討項目である。そこで、 異なる厚さtと幅wの多孔質Poly-Si 透過膜を用いてSiO2犠牲層を気相エッチングにより除去して空隙を形成し、プロセス中に生じる膜の形状の 変化を調べた。