[23p-B102-1~8] 8.3 Plasma nanotechnology

△ [23p-B102-5] Aligned growth of carbon nanowalls by control of ion incident angle

〇(M2)Shintaro Iba¹, Hiroki Kondou², Kenji Ishikawa², Takayoshi Tsutsumi², Mineo Hiramatsu³, Makoto Sekine², Masaru Hori² (1.Nagoya Univ., 2.Nagoya Univ. Center for Low-temperature Plasma Sciences, 3.Meijo Univ.)

Keywords:Carbon nanowalls

垂直配向グラフェン材料であるカーボンナノウォール(CNWs)は電気伝導性や化学的耐久性などの特性を有し、様々なデバイス応用が期待されている。本研究では，一般には基板面内ではランダム方向に迷路状構造を形成しているCNWsを，傾斜ステージとRF基板バイアスを用いることで，一方向に配向成長させることに成功した．またCNWsの成長におけるイオン照射角とエネルギーの観点から，その配向機構を明らかにした．