2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[23p-C102-1~14] 13.3 絶縁膜技術

2022年9月23日(金) 13:15 〜 17:00 C102 (C102)

渡邉 孝信(早大)、喜多 浩之(東大)

14:00 〜 14:15

[23p-C102-4] フッ化グラフェンを用いた不揮発性メモリの電荷捕獲特性

〇(M1)川島 理乃1、野平 博司1、石川 亮佑1、三谷 祐一郎1 (1.東京都市大学)

キーワード:フッ化グラフェン、荷電中心

2次元材料のグラフェンにフッ化処理を加えると、その性質は導体膜から絶縁膜から絶縁膜へと変化する。フッ化グラフェンを電荷捕獲層に用いたフレキシブル不揮発性メモリが提案され、動作することが既に報告されている。しかし、フッ化グラフェンへの電荷捕獲のメカニズムは十分に明らかにされていない。そこで本研究では、フッ化グラフェンを挿入したMISキャパシタを試作し、電気特性から電荷捕獲について詳細な検討を行った。