一般セッション(口頭講演)
8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
2022年3月25日(金) 13:00 〜 18:30 E104 (E104)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇大堀 大介1、Ge Beibei1、Chen Yi-Ho2、尾崎 卓哉1、遠藤 和彦3、Li Yiming2、Tarng Jenn-Hwan2、寒川 誠二1,2,4 (1.東北大流体研、2.NYCU、3.産総研、4.東北大AIMR)
スケジュール
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13:15 〜 13:30
〇伊藤 智子1、北 英和1、鈴木 歩太2、加賀谷 宗仁2、松隈 正明2、松崎 和愛2、唐橋 一浩1、浜口 智志1 (1.阪大院工、2.東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ（株）)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇(D)齋藤 健太郎1、吉田 一樹1、三浦 正範2、鹿又 健作2、有馬 ボシールアハンマド1、久保田 繁1、廣瀬 文彦1 (1.山形大院理工、2.山形大院有機)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇税木 善則1、鬼頭 純平1、橋本 侑樹1、坂東 隆宏1、針谷 達1、滝川 浩史1、儀間 弘樹2、杉田 博昭2 (1.豊橋技科大、2.オーエスジーコーティングサービス（株）)
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14:00 〜 14:15
〇(M2)石井 晃一1、佐々木 瞬1、神山 真大1、李 虎2、伝宝 一樹2、小田 昭紀1 (1.千葉工業大学、2.東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇李 虎1、石井 晃一2、佐々木 瞬2、神山 真大2、小田 昭紀2、伝宝 一樹1 (1.東京ｴﾚｸﾄﾛﾝﾃｸﾉﾛｼﾞｰｿﾘｭｰｼｮﾝｽﾞ、2.千葉工大)
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14:30 〜 14:45
〇大谷 毅1、大桐 巧2、依田 秀彦2 (1.光融合技術協会、2.宇都宮大学工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇内田 儀一郎1,2、林 純希1、羽生 侑真1、永井 健太1、木賀 海晴1、山田 輝也1 (1.名城大理工、2.名城大次世代エネセンター)
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15:00 〜 15:15
〇濱野 誉1,5、松田 崇行1、朝本 雄也1、野間 正男2、長谷川 繁彦3、山下 満4、占部 継一郎1、江利口 浩二1 (1.京大院工、2.神港精機、3.阪大産研、4.兵庫県立工技センター、5.学振特別研究員DC)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(D)松田 崇行1、濱野 誉1、朝本 雄也1、野間 正男2、山下 満3、長谷川 繁彦4、占部 継一郎1、江利口 浩二1 (1.京大院工、2.神港精機、3.兵庫県立工業技術センター、4.阪大産研)
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15:45 〜 16:00
〇田口 貢士1、富川 弥奈1、箕浦 皓1、山原 基裕1、登尾 一幸1 (1.魁半導体)
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16:00 〜 16:15
〇永松 大樹1、有馬 聡明1、大高 真寛1、山下 大輔1、鎌滝 晋礼1、古閑 一憲1、白谷 正治1、大友 洋2、進藤 崇央2、田中 諭志2、松戸 龍夫2 (1.九州大学、2.東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ(株))
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16:15 〜 16:30
黒川 純平1、光成 正2,3、〇近藤 博基3、堤 隆嘉3、関根 誠3、石川 健治3、堀 勝3 (1.名大院工、2.東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ、3.名大低温プラズマ科学研究センター)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇(M1)中居 辰夫1、桑田 篤哉2、佐々本 凌2、篠原 正典2、松本 貴士3、田中 諭志3 (1.福岡大院工、2.福岡大工、3.東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ(株))
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16:45 〜 17:00
〇(M1)秋山 恒樹1、佐藤 哲也1 (1.山梨大工)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇(M2)戸田 俊太郎1、佐藤 哲也1 (1.山梨大工)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇伊藤 拓望1、垣内 弘章1、大参 宏昌1 (1.阪大院工)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇今中 海舟1、真鍋 義人1、白藤 立1、呉 準席1 (1.大阪市大工)
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17:45 〜 18:00
〇長谷川 大樹1、出口 雅史1、山下 大輔1、都甲 将2、鎌滝 晋礼1、古閑 一憲1,3、白谷 正治1 (1.九大、2.阪大、3.自然科学研究機構)
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18:00 〜 18:15
〇長坂 政彦1、内山 晃臣1、芳賀 康孝1、紅林 亮平2、岸 真夏2、鈴村 こころ2、荻野 明久2 (1.新東工業、2.静大院工)
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18:15 〜 18:30
〇岸 真夏1、紅林 亮平1、鈴村 こころ1、長坂 政彦2、内山 晃臣2、芳賀 康孝2、荻野 明久1 (1.静大院工、2.新東工業)
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