[22a-F408-1~6] 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

[22a-F408-5] Formation of oxygen vacancies in high-purity α-quartz exposed to ⁶⁰Co γ-rays

〇Koichi Kajihara¹, Linards Skuja², Hideo Hosono³ (1.TMU, 2.Univ. Latvia, 3.TITech)

Keywords:high-purity alpha-quartz, Frenkel process, 60Co gamma-rays

代表的な結晶性SiO₂であるα-石英の高純度試料が近年入手できるようになった。これらのγ線に対する照射応答を高純度非晶質SiO₂(a-SiO₂、シリカガラス)と比較することで、イオン性化合物での非晶質化(構造のランダムネス)が電子励起による真性欠陥過程に及ぼす影響を知見できると期待され、実際に高純度a-石英の方が照射耐性に優れることが判明しているが、Al などの微量不純物による影響は不明であった。今回、Al 濃度の異なる高純度-石英試料で照射応答を調べた結果を報告する。