[22a-F408-1~6] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[22a-F408-5] ⁶⁰Co γ線照射した高純度α-石英における酸素欠陥生成

〇梶原 浩一¹、Skuja Linards²、細野 秀雄³ (1.都立大、2.Latvia大、3.東工大)

キーワード：高純度α-石英、Frenkel過程、60Co γ線

代表的な結晶性SiO₂であるα-石英の高純度試料が近年入手できるようになった。これらのγ線に対する照射応答を高純度非晶質SiO₂(a-SiO₂、シリカガラス)と比較することで、イオン性化合物での非晶質化(構造のランダムネス)が電子励起による真性欠陥過程に及ぼす影響を知見できると期待され、実際に高純度a-石英の方が照射耐性に優れることが判明しているが、Al などの微量不純物による影響は不明であった。今回、Al 濃度の異なる高純度-石英試料で照射応答を調べた結果を報告する。