[22a-P01-1~10] 1.3 Novel technologies and interdisciplinary engineering

[22a-P01-7] Surface plasmon resonance of Au thin film prepared by sputtering method

〇Yasuyuki Yamada¹, Jun Tezuka¹, Tomohiro Koyama¹ (1.NIT, Oyama College)

Keywords:sputtering method, surface plasmon resonance, Au thin film

本研究では，将来的に酸化物半導体等の薄膜との組み合わせによるデバイス作製を想定し，簡便なAu薄膜作製法であるスパッタ法に着目し，半透明なAu薄膜の作製を行った．Au薄膜は，サンユー電子(株)製のクイックコーターSC-701を用いたスパッタ法により作製した．スパッタレートより推測される膜厚が2 ～ 3 nmのとき，おおよそ600 ～ 800 nmの範囲において，大きな透過率の減少傾向が見られた．これは表面プラズモンの影響と推測される．