[22a-P01-1~10] 1.3 Novel technologies and interdisciplinary engineering

[22a-P01-9] Reduction of resistance by pretreatment using solid source H2O plasma of Cr/Ge electrode sputtered on a polyimide sheet

〇Mie Tohnishi¹, Mina Sato¹, Sachiko Matsushita², Akihiro Matsutani¹ (1.Tokyo Tech. OFC, 2.Tokyo Tech. Materials Science and Engineering)

Keywords:H2O Plasma treatment, Electrode sputtered on a polyimide sheet

ポリイミドなどの樹脂表面に金属薄膜を成膜して作られたフレキシブル電極には、低抵抗と電極金属と樹脂表面の良好な密着性が求められる。これまで、固体ソースH₂Oプラズマを用いて表面処理したポリイミドテープ表面上に成膜したCr/Cuのシート抵抗と折り曲げに対する耐久性に良好な結果が得られ、金属成膜前のH₂Oプラズマを用いた表面処理が、ポリイミドとの密着性に効果があることを報告した。今回は、ポリイミドシート上にスパッタ成膜したCr/Ge電極の抵抗を測定し、成膜前の固体ソースH₂Oプラズマを用いた表面処理が低抵抗化に有効との知見が得られたので報告する。