[22p-E105-1~18] 8.1 Plasma production and diagnostics

△ [22p-E105-16] Control of Ion Flux to the Substrate in Material Processing with a Vacuum-Arc Discharge Considering Discharge Current Limitation Mechanisms (II)

〇Yuya Asamoto¹, Takayuki Matsuda¹, Takashi Hamano¹, Masao Noma², Shigehiko Hasegawa³, Michiru Yamashita⁴, Keiichiro Urabe¹, Koji Eriguchi¹ (1.Kyoto Univ., 2.SHINKO SEIKI Co., LTD, 3.Osaka Univ. ISIR, 4.Hyogo Pref. Inst. Technol.)

Keywords:vacuum arc discharge

真空アーク放電は薄膜堆積や表面改質などに広く応用されている．我々はこれまで，熱電子供給型真空アーク放電の電流値には熱電子供給律速機構と空間電荷制限による伝導律速機構が存在し，これらの律速機構が基板へのイオンフラックスに大きく影響することを明らかにした．本研究では，放電中の伝導律速機構を支配する領域を実験的に明確にし，高イオンフラックスを得るための放電制御手法を提案する．