[23a-E204-1~10] 6.3 Oxide electronics

[23a-E204-8] Epitaxial growth mechanism of mist-chemical-vapor-deposited magnetite

〇Daisuke Kan¹, Hiroshi Shiraki², Shinji Horai¹, Yuichi Shimakawa¹ (1.ICR, Kyoto Univ., 2.Murata Mfg.)

Keywords:epitaxial growth, mist CVD, magnetite

ミストCVD法を利用した薄膜作製チャンバーを構築し、マグネタイトFe₃O₄エピタキシャル薄膜の低温成長およびその成長メカニズムを検討した。