2022年第69回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[23a-F407-1~8] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2022年3月23日(水) 09:00 〜 11:15 F407 (F407)

影山 健生(日本ルメンタム)、山根 啓輔(豊橋技科大)

09:30 〜 09:45

[23a-F407-3] Ga(N)As(Bi)混晶における光励起されたキャリアがラマンスペクトルに及ぼす影響

〇(DC)長谷川 将1、蓮池 紀幸1、西中 浩之1、吉本 昌広1 (1.京都工繊大)

キーワード:分子線エピタキシー、ガリウムヒ素、ラマン分光法

MBE成長Ga(N)As(Bi)混晶薄膜の分子振動特性をラマン分光法により調査した。発表当日は、励起レーザによって生成されたキャリアの振る舞いとそれらのLOフォノン・プラズモン結合(LOPC)モードへの寄与について詳細に議論する。