2022年第69回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[23a-F407-1~8] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2022年3月23日(水) 09:00 〜 11:15 F407 (F407)

影山 健生(日本ルメンタム)、山根 啓輔(豊橋技科大)

10:30 〜 10:45

[23a-F407-6] InP基板上 1.5 μm帯InAs 量子ドットの成長

〇權 晋寛1、詹 文博1、岩本 敏1,2、荒川 泰彦1 (1.東大ナノ量子、2.東大先端研)

キーワード:量子ドット、分子線エピタキシー、InP基板

近年、シリコンフォトニクスの進展などにより、高効率光源として量子ドットが注目されている。特に、長距離光通信用 1.5 μm 帯 InAs 系量子ドットは高効率に発光するため、次世代高性能多波長光源として注目されている。また、光量子コンピュータ用の高効率非線形光学素子としての展開も期待されている。しかし、InP 基板に格子整合する高インジウム組成のInAlGaAs 層上に InAs を供給すると、インジウム付着原子により、1次元量子ダッシュ構造が形成される問題があった。今回我々は、InAlGaAs 層上に薄い GaAs 層を挿入することで、InP基板上で良質な1.5 μm帯InAs 量子ドットの形成を実現したので報告する。