2022年第69回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.6 ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイス

[23p-D316-1~17] 13.6 ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイス

2022年3月23日(水) 13:00 〜 17:45 D316 (D316)

中岡 俊裕(上智大)、原田 幸弘(神戸大)、太田 竜一(NTT)

16:45 〜 17:00

[23p-D316-14] 化学溶解中におけるポーラスシリコンのフォトルミネセンス特性

〇田倉 直人1、坂田 創輝1、金 蓮花1、ジェローズ ベルナール2 (1.山梨大、2.名古屋大)

キーワード:ポーラスシリコン、フォトルミネセンス、化学溶解

フォトルミネセンス(PL)特性を有するポーラスシリコン(PSi)は,多孔率が高い程,ナノシリコン結晶の大きさが小さくなり,PLのピーク波長が短くなる.PSiに対してHFを使用した化学溶解を行うことで,より高い多孔率が得られる.ここでは,p,p+,n+型PSiの化学溶解中に生じるPL特性について調べたので,その結果について報告する.