[24a-E101-1~7] 7.1 X-ray technologies

[24a-E101-5] ^{Development progress of the component technology of Extreme Ultra-Violet (EUV) Light Source}

〇Shogo Kitasaka¹, Yoshifumi Ueno¹, Yuichi Nishimura¹, Takashi Suganuma¹, Gota Niimi¹, Hiroaki Tomuro¹, Koutaro Miyashita¹, Shinji Nagai¹, Hirokazu Hosoda¹, Fumio Iwamoto¹, Toshirou Umeki¹, Tamotsu Abe¹, Hiroaki Nakarai¹, Takashi Saito¹, Hakaru Mizoguchi¹ (1.Gigaphoton Inc.)

Keywords:EUV

ギガフォトンではSn液滴に短パルスレーザを照射し、Snプラズマを生成し、EUV発光させるレーザ生成プラズマ(Laser Produced Plasma : LPP)方式のEUV光源にて、現在までにパルス毎のEUVエネルギ安定性3σが6%以下、Sn液滴の連続供給運転が2000時間以上を達成した。本講演では、上記達成に寄与したLPP方式でのレーザシューティングシステムとデブリミチゲーション観察結果、長寿命のSn液滴の供給技術などの最新の開発状況について報告する。