[24a-E101-1~7] 7.1 X線技術

[24a-E101-5] EUV光源の要素技術の開発進捗

〇北阪 翔伍¹、植野 能史¹、西村 祐一¹、菅沼 崇¹、新美 剛太¹、戸室 啓明¹、宮下 光太郎¹、永井 伸二¹、細田 裕計¹、岩本 文男¹、梅木 俊郎¹、阿部 保¹、半井 宏明¹、齋藤 隆志¹、溝口 計¹ (1.ギガフォトン)

キーワード：EUV

ギガフォトンではSn液滴に短パルスレーザを照射し、Snプラズマを生成し、EUV発光させるレーザ生成プラズマ(Laser Produced Plasma : LPP)方式のEUV光源にて、現在までにパルス毎のEUVエネルギ安定性3σが6%以下、Sn液滴の連続供給運転が2000時間以上を達成した。本講演では、上記達成に寄与したLPP方式でのレーザシューティングシステムとデブリミチゲーション観察結果、長寿命のSn液滴の供給技術などの最新の開発状況について報告する。