2022年第69回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[24a-F307-1~8] 6.4 薄膜新材料

2022年3月24日(木) 09:15 〜 11:30 F307 (F307)

西川 博昭(近畿大)

09:30 〜 09:45

[24a-F307-2] 大気開放型CVD法を用いて活性炭上に作製した酸化亜鉛マイクロウイスカー

〇FAN YUKUN1、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技大)

キーワード:大気開放型CVD法、活性炭、酸化亜鉛マイクロウイスカー

大気開放型化学気相析出(CVD)法を利用するとセラミックスのミクロ構造制御が可能になる。マイクロオーダーで制御されたウイスカー形状構造、網目形状構造などの構造体を形成することができる1)。酸化亜鉛(ZnO)ウイスカーは、結晶の表面付近に圧縮応力が発生するため、その応力を緩和しようとするために新たな結晶がもとの結晶の外側に向けて連続的に成長し続ける傾向を持つため、欠陥の少ない微細な短繊維状結晶であり極めて高い強度を有する。そのため、高い生体適合性を有するZnOマイクロウイスカーのMN法への応用が期待できる。大気開放型CVD法を用いて、水素吸蔵能力を有するヤシ殻活性炭上にZnOマイクロウイスカーを成長させることを試みた。