PDF ダウンロード スケジュール 19 いいね! 0 コメント (0) 13:00 〜 13:15 [25p-D114-1] [第51回講演奨励賞受賞記念講演] 縦型半導体スピン素子を目指したCo2FeSi上の高品質Ge成長と室温磁気抵抗比の増大 〇山田 敦也1、山田 道洋2、山田 晋也3,1、澤野 憲太郎4、浜屋 宏平3,1 (1.阪大基礎工、2.JSTさきがけ、3.阪大基礎工CSRN、4.都市大総研) キーワード:半導体スピントロニクス、ハーフメタルホイスラー合金、分子線エピタキシー法