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一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[25p-E104-1~21] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2022年3月25日(金) 13:00 〜 18:30 E104 (E104)

荻野明久(静大)、針谷達(豊橋技科大)

16:45 〜 17:00

[25p-E104-15] c-C₄F₈凝縮層への低速電子照射により銅基板上に低温形成したa-C:Fの物性評価

〇(M1)秋山恒樹¹、佐藤哲也¹ (1.山梨大工)

キーワード：プラズマCVD、オクタフルオロシクロブタン、フルオロカーボン薄膜