[25p-E104-1~21] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[25p-E104-20] Hydrogenation and Reduction Treatment of Magnesium-Based Materials

〇Masahiko Nagasaka¹, Akiomi Uchiyama¹, Yasutaka Haga¹, Ryohei Kurebayashi², Manatsu Kishi², Kokoro Suzumura², Akihisa Ogino² (1.SINTOKOGIO, LTD., 2.Shizuoka Univ.)

Keywords:Hydrogen Plasma, Magnesium-Based Materials, MgH2

マグネシウム系材料を攪拌しつつ、水素プラズマによって水素化及び還元処理した際の反応について検討した。結果、イオン飽和電流密度が比較的高いと思われる条件下、かつ、これまで報告されてきた処理時間よりも短時間で水素化及び還元処理が進んだ。攪拌による試料表面の過熱防止効果によるものと考えられる。