[25p-E202-1~15] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

△ [25p-E202-2] Development of solution-processed electrode by positive direct patterning

〇Shuhei Tanaka¹, Masashi Miyakawa¹, Hiroshi Tsuji¹, Tatsuya Takei¹, Mitsuru Nakata¹ (1.NHK Sci.& Tech. Res. Labs.)

Keywords:metal oxide, patterning process

リソグラフィを用いずに薄膜を加工する、ダイレクトパターニングプロセスを用いてTFTの塗布型電極を開発した。従来のネガ型のダイレクトパターニング法とは異なる、金属酸化物前駆体溶液のポジ型ダイレクトパターニングプロセスについて報告する。