The 69th JSAP Spring Meeting 2022

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Oral presentation

21 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices" » 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[25p-E202-1~15] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

Fri. Mar 25, 2022 1:30 PM - 5:30 PM E202 (E202)

Rie Togashi(Sophia Univ.), Magari Yusaku(Simane Univ.)

3:45 PM - 4:00 PM

[25p-E202-9] Epitaxial growth of ZnO thin films on polymer substrates using β-Ga2O3 single crystal cleaved seed layers

〇(D)Tomoaki Oga1, Hisashi Miyazaki2, Satoru Kaneko3,1, Akifumi Matsuda1, Mamoru Yoshimoto1 (1.Tokyo Tech, 2.NDA MSE, 3.KISTEC)

Keywords:ZnO, epitaxial, polymer

高結晶・配向なワイドギャップ酸化物半導体薄膜をポリマー上に形成することでフレキシブルデバイスへの応用が期待される。ガラス転移を示すポリマー基板上では、低温での配向制御が必要である。本研究では、フレキシブル基板上における高結晶配向ZnO薄膜の作製を目的とし、β-Ga2O3単結晶へき開シード層を用いたポリマー基板上ZnO薄膜の結晶配向成長およびその特性について検討した。