[26a-P03-1~15] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[26a-P03-10] メタン高周波プラズマのモデリング

〇池田 圭¹ (1.アテナシス)

キーワード：半導体、メタン、プラズマ

メタンは，半導体製造プロセスやCNT・DLC成膜に利用され，応用分野が幅広いガスの一つである。そのプラズマプロセスを理解する手段として，シミュレーションの活用が期待されているが，その反応は気相・表面とも複雑で，経時変化も伴う。今回，40の中性粒子・イオンと，389の気相の反応式を考慮し，二次元軸対称モデルで検討を行った。今回，成膜モデルを更に改良する準備段階としての結果を報告する。