[26p-E206-1~14] CS.6 6.5 表面物理・真空、7.6 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェアセッション

△ [26p-E206-10] 超高真空スパッタ法で作製した Zr および Ti 非蒸発型ゲッタ薄膜の評価

〇(M2)土田 遼介¹、モハメッド シュルズ ミヤ¹、中野 武雄¹、菊地 貴司²、間瀬 一彦^2,3 (1.成蹊大院理工、2.高エネ研、3.総研大)

キーワード：薄膜、真空、非蒸発型ゲッタ

Zr, Tiなどの非蒸発型ゲッタ (NEG) は超高真空中での加熱により活性化し、残留ガスを吸着・排気する材料である。Zr, Tiをスパッタ法で製膜した大きさや形状が異なる基板を用意し、150~200℃で12~24時間加熱してH2, COに対する排気速度を測定した。ベーキング後に10-8 Paへ到達した基板はH2に対する排気性能を示さなかったが、H2O, COは排気していると思われる。講演ではTiをスパッタ製膜したブランクフランジのCOに対する排気性能についても報告する。