2022年第69回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[26p-F308-1~4] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2022年3月26日(土) 13:00 〜 14:00 F308 (F308)

谷口 淳(東理大)

13:30 〜 13:45

[26p-F308-3] スマートグラス用傾斜回折パターンの離型プロセス・材料に関する考察

山村 龍平1、國藤 裕成1、亀山 開1、安田 雅昭1、〇平井 義彦1 (1.阪府大院工)

キーワード:ナノインプリント、離型、傾斜構造

傾斜構造の回折格子により、反射/透過ミラーを薄膜化したVR(仮想現実)やAR(拡張現実)用スマートグラスが開発されている。このような光学構造の作製方法としてナノインプリントが一部で使用されているが、傾斜構造の離型プロセスが一つのカギとなる。ここでは、数値シミュレーションを用いて、傾斜構造の離型プロセスで生じるダメージについて考察した。パターンの傾斜(左方向)に対して逆方向(左から右方向)にピール離型(左端を持ち上げ)する方が、その反対 (右端)より離型するより、レジスト,モールド内のひずみが低く抑えらる。また、材料の弾性率比を1に近づけるほど、双方のひずみが抑えられる。