11:00 〜 11:15 [15a-D511-8] シリコン・炭素系混合分子イオン注入エピウェーハのゲッタリングメカニズム解析 〇廣瀬 諒1、柾田 亜由美1、奥山 亮輔1、門野 武1、小林 弘治1、鈴木 陽洋1、古賀 祥泰1、栗田 一成1 (1.株式会社 SUMCO)