16:00 〜 16:15 [15p-A408-12] C2H2, N2, Ar混合気体のRFプラズマCVDを用いた高窒素含有水素化アモルファス窒化炭素薄膜の合成 〇伊藤 治彦1、綿貫 了太1、鈴木 常生1、斎藤 秀俊1 (1.長岡技科大(工))