14:30 〜 14:45 [16p-A403-5] [第14回シリコンテクノロジー分科会研究奨励賞受賞記念講演] Atomic Layer Etching時にSi基板に生成されるイオン侵入ダメージの解析 〇平田 瑛子1、深沢 正永1、釘宮 克尚1、唐橋 一浩2、浜口 智志2、萩本 賢哉1、岩元 勇人1 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ(株)、2.阪大院工)