09:15 〜 09:30 [17a-A205-2] 電子サイクロトン共鳴プラズマスパッタリング(ECR)法を用いたSiCN薄膜の作製と評価 〇(B)大庭 優輝1、伊藤 公秀1、野瀬 正照2、青井 芳史1 (1.龍谷大理工、2.富山大)