15:00 〜 15:15 [17p-D511-7] Si ウェハーベースセンサーアレイデザインによるSiNx薄膜の面内熱拡散率測定 〇(D)森川 淳子1、ジャン フェリックス2、劉 芽久哉3、ウ シャン タン2、インゲブラント スヴェン2 (1.東工大物質、2.アーヘン工科大、3.産総研)